設備用途：    

    利用真空蒸鍍方式生產(chǎn)硅的氧化物；

    適用于氧化亞硅等可氣相沉積材料大批量生產(chǎn)；溫差控制精度高，高溫高真空；具備高真空升華，反應，脫脂，脫水，氣相沉積材料自動研磨刮料，爐內(nèi)收集等特殊工藝能力。

     設備特點：

      一次裝料量大， 生產(chǎn)效率高。
      全程全封閉全自動化作業(yè)，避免粉塵飛揚，生產(chǎn)現(xiàn)場環(huán)境整潔干凈。
      溫度控制1500度以內(nèi)，升溫速率快。
      可以在真空度下保持穩(wěn)定運行工作。

      設備參數(shù)：